電鍍硬鉻中的水溶液是鉻酸，它是鉻涂層的來源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很大范圍內(nèi)變化。例如，當(dāng)溫度為45 ~ 50℃，陰極電流密度為l0A/dm2，鉻酐濃度為50 ~ 500克/升，甚至高達(dá)800克/升時(shí)，可獲得光亮的鍍鉻層。然而，這并不意味著鉻酐的濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中使用的鉻酐的濃度在L50和400克/升之間。
　　電鍍硬鉻的鉻酐的濃度對鍍液的電導(dǎo)率起決定作用，可知在每個溫度下，鉻酐濃度對應(yīng)于較高的電導(dǎo)率；隨著電鍍硬鉻的鍍液溫度的升高，隨著鉻酐濃度的增加，較大的電導(dǎo)率值向稍高的方向移動。因此，僅就電導(dǎo)率而言，應(yīng)采用鉻酐濃度較高的鍍鉻溶液。

　　當(dāng)使用電鍍硬鉻高濃度鉻酸電解液時(shí)，工件帶來的損失是嚴(yán)重的，這不僅造成不必要的材料消耗，而且對環(huán)境造成一定的污染。然而，低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子敏感，其覆蓋能力差。

　　鉻酐濃度過高或過低都會縮小獲得光亮涂層的溫度和電流密度范圍。鉻酐濃度低的鍍液電流效率高，常用于電鍍硬鉻。濃浴槽主要用于裝飾電鍍。雖然鍍液的性能與鉻酐的含量有關(guān)，但它主要取決于鉻酐與硫酸的比例。